PHI 5000 Versaprobe II XPS微探针

   PHI 5000 VersaProbe II最为一款多功能、多技术融合及高性能的XPS表面分析平台。秉承PHI-XPS独有的扫描聚焦X-ray光源，可通过石英晶体将X-ray单色化并聚焦至最小10μm，并可通过调节聚焦透镜，使X-ray束斑直径由10μm至400μm连续可调，结合扫描功能可完成Φ10μm~1400μm*1400μm范围的光电子采谱。使其即可满足XPS微区分析，同时又能够快速完成大面积光谱采集。PHI 5000 VersaProbe II摒弃在收集透镜端采用传统的光阑设计进行选区，最大可能的提升了光电子的收集效率，使其远远高出同类产品在200μm以下空间尺度的灵敏度。同时，勿需采用磁透镜，保证了磁性样品分析时的灵敏度及避免了由磁透镜所带来的荷电中和困难，即使是磁性样品，也可轻松应对。

1.　囊括XPS的全部功能，同时可融合多种分析技术

◆ 全图谱（survey）对各种样品进行定性分析；

◆ 通过窄谱扫描（narrow spectra）侦测元素的化学态信息；

◆ 半定量给出各个成分及其化学态的百分比；

◆ 点、线、面分析（Line Scan& Mapping）；

◆ 化学态成像；

◆ 深度剖析（Depth Profiling）；

◆ 原位加热/冷却（选）；

◆ 反应腔室模拟准原位分析（选）；

◆ 紫外光电子能谱（选）；

◆ 俄歇能谱（选）；

◆ 反光电子能谱（IPES）（选）；

◆ 真空输运装置（选）；

◆ 可增加电子枪、离子枪等离子源进行前处理及光电子倍增管检测器（选）；

◆ 高能双阳极X-ray（选）。

2.　扫描聚焦式X-ray光源，使微米分析更加有效

扫描聚焦的X-ray光源及高灵敏度能量分析器集合128通道探测器，可提供最高性能的小区域XPS分析能力。PHI 5000 VersaProbe II采用专利技术的新型X-ray光源，X-ray束斑直径由10μm至400μm连续可调，结合扫描功能，可快速完成Φ10μm~1400μm*1400μm区域的分析。通过扫描X-ray，能够真正意义上完成点、线、面分析。

3.　扫描X-ray生成二次电子影像（SXI），使分析区域定位更方便

传统的XPS在微区分析定位时，存在不能清晰观察样品的困难。PHI 5000 VersaProbe II可通过X-ray激发样品产生二次电子影像（SXI），可通过二次电子影像提供分析所用的全部细微特征。二次电子影像（SXI）与采谱过程采用相同的激发源、光电子经过相同的光学路径、使用同一探测器进行成像及获谱。避免了因为光学图像上选点与分析位置的偏差，保证了所见即所得的精确分析。

4.　自动双束中和设计，使导体及非导体

双束中和采用低能电子束及低能离子束，在样品近表面形成类等离子体气氛，用来中和绝缘样品表面的荷电。这一专利的中和方式，使在分析不同类型样品时，无需重新设置中和参数，既能自动匹配提供稳健的电荷补偿功能。浮动柱状离子枪及冷阴极发射器可以在超低电压的条件下，提供最大的离子及电子密度流。

5.　逐点扫描的快速化学成像能力

通过扫描X-ray，可通过条件每点的扫描时间快速完成化学态成像。同时能够得到每个像素点的化学态信息。传统的XPS通常采用拍摄大量的化学态快照，通过数学计算得到微区谱信息。而PHI 5000 VersaProbe II真正意义上实现了在化学态成像图上获取数据谱信息，同时数据谱的空间分辨率、灵敏度及能量分辨率与仪器主指标一致。

6.　精确而快速的深度剖析能力

采用独特的聚焦X-ray设计，可使用较小的束斑得到优秀的界面信息。同时采用较小的溅射面积实现快速的深度剖析功能。